ASML在光刻机领域几乎是巨无霸的存在而他们对于与中国企业合作也是非常欢迎无奈一些关键细节上被美国卡死。
中国需要光刻机尤其是支持先进制程的高端光刻机特别是 EUV （极紫外光源）光刻机不过ASML对这个机器是不放行的主要是美国强制要求。
EUV光刻机是光刻机在发展过程中的第五代产品由于采用了极紫外线它的最小工业节点到了 22nm-7nm可以说是世界上最先进的光刻机设备——而这种设备只有ASML能造出来。
2018年4月中芯国际向ASML订购了一台 EUV 光刻机价值1.2亿美元（约合人民币8亿元）预计2019年年初交货。后来此事被报道后ASML回应称对包括中国客户在内的全球客户都一视同仁且向中国出售EUV光刻机并没有违反《瓦森纳协定》。当时荷兰政府的确向 ASML 发放了出口许可证。
不过最终这个交易也没有形成根据知情人士的说法美国立即盯上了这笔交易——接下来的几个月里美方官员至少四次与荷兰官员开会讨论可否直接封杀这笔交易。
此后关于EUV光刻机向中国出口ASML 的官方说法一直是：公司仍在等待新许可证申请的批准。
在这之前ASML CFO Roger Dassen在财报会议的视频采访中谈到了与中芯国际等中国客户的业务情况其表示一些情况下出口光刻机是不需要许可证的。
Roger Dassen指出ASML了解美国当局目前的规章制度及其解释当然也知道这些与特定的中国客户密切相关但如果广泛的来理解其规章制度对ASML的总体含义(对于特定的中国客户)则意味着ASML将能够从荷兰向这些中国客户提供DUV光刻系统且无需出口许可证。
美国仅仅是限制了美国不能给中国出口芯片、光刻机等但并没有限制其他国家对中国进口荷兰并不在美国的禁令范围内。
目前的光刻机主要分为EUV光刻机和DUV光刻机。DUV光刻机分为干分式与液浸式两种。其中液浸式于ASML手中诞生其波长虽然有193nm但等效为134nm经过多重曝光后液浸式光刻机也能够达到7nm工艺。但是每多一次曝光都会使得制造成本大大提升而且良品率也难以控制。
EUV光刻机采用13.5nm波长的光源是突破10nm芯片制程节点必不可少的工具。也就是说就算DUV（深紫外线）光刻机能从尼康、佳能那里找到替代但如果没有ASML的EUV光刻机芯片巨头台积电、三星、Intel的5nm产线就无法投产。
